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納米氧化鋅分散機

簡要描述:納米氧化鋅分散機,納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象,導致粒徑變大。SGN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結合,先研磨后分散機,解決團聚問題!

  • 產品型號:GMD2000/4
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-08-18
  • 訪  問  量:454
詳情介紹

納米氧化鋅分散機,氧化鋅分散機,納米氧化鋅研磨分散機,高剪切分散機,納米分散機,研磨式分散機

 

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品,使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫(yī)藥等許多領域有重要的應用價值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

 

納米氧化鋅分散機,納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象,導致粒徑變大。SGN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結合,先研磨后分散機,解決團聚問題!


GMD2000系列研磨式分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
                

 
GMD2000系列研磨式分散機的特點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

GMD2000系列研磨分散機設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準.
 

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