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霧化石墨乳研磨分散機

簡要描述:霧化石墨乳研磨分散機,石墨乳改進型高速膠體磨SGN循環(huán)式作業(yè)方式的研磨分散機是一款改進型膠體磨,特別適合新材料的研究制備,目前已成功應(yīng)用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究,軍工研究等多項科研和生產(chǎn)中。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-20
  • 訪  問  量:1318
詳情介紹

一、產(chǎn)品名稱概述:霧化石墨乳研磨分散機,粒度可控石墨乳分散機,溶劑型石墨乳研磨分散機,顯像管用石墨乳研磨分散機

二、石墨乳的簡介

石墨乳的主要成分是石墨粉(微粉石墨),因其呈乳狀狀態(tài),所以常被稱作石墨乳,根據(jù)石墨粉的導(dǎo)電、潤滑、防腐、耐高溫等特點生產(chǎn)的系列石墨乳可廣泛用于導(dǎo)電、電磁屏蔽、抗靜電、鍛造、潤滑、防腐、密封、絲網(wǎng)印刷線路、彩色顯示器件制造等領(lǐng)域,起到導(dǎo)電、抗靜電、防腐、潤滑、密封、屏蔽等作用。

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在鑄造領(lǐng)域中,石墨乳用于金屬鍛造的脫模劑,如鋼鍛件、銅鍛件、合金鍛件、鋁鍛件的脫模劑。石墨乳通過噴涂裝置進行霧化,噴涂在模具的鑄造型腔內(nèi)。

三、石墨乳的分散難點

石墨分散有一部分企業(yè)采用超聲波或者高速分散機進行分散處理,但是存在許多弊端。超聲分散難以規(guī)模化,高速分散難以保證漿料的均勻度以及生產(chǎn)效率低。面對這個問題上海SGN研發(fā)出研磨式高剪切分散機,將膠體磨和分散機合二為一,先研磨打開二級團聚體,然后瞬間進行分散均質(zhì),保證石墨漿料的細(xì)化和分散均勻。尤其對于橡膠行業(yè),采用傳統(tǒng)間隙的分散設(shè)備無法均勻穩(wěn)定將石墨分散到液體基體中,必須采用管線式分散設(shè)備,以確保物料更充分的剪切、分散。

四、霧化石墨乳加工設(shè)備

石墨乳改進型高速膠體磨SGN循環(huán)式作業(yè)方式的研磨分散機是一款改進型膠體磨,特別適合新材料的研究制備,目前已成功應(yīng)用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究,軍工研究等多項科研和生產(chǎn)中。

石墨乳粒徑越小,越有利于石墨乳的霧化以及石墨電量的提高,石墨烯研磨分散機

上海SGN在石墨領(lǐng)域的應(yīng)用成功,為石墨行業(yè)的發(fā)展提供了設(shè)備支持,得到了充分的認(rèn)可。SGN石墨烯分散設(shè)備采用德國較良好的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(可達18000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒。

五、石墨乳研磨分散機的特點

1、石墨乳研磨分散設(shè)備采用上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。

2、SGN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通分散機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通分散機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力。

3、 GMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。一級由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

六、石墨乳研磨分散機選型表

 

標(biāo)準(zhǔn)流量(H2O) 

輸出轉(zhuǎn)速 

標(biāo)準(zhǔn)線速度 

馬達功率 

進出口尺寸 

型號 

l/h 

rpm 

m/s 

kW 

 

GMSD 2000/4 

300-1,000

14000

44

2.2

DN25/DN15

GMSD 2000/5 

1,000-1.500

10,500 

44

7.5 

DN40 /DN 32 

GMSD 2000/10 

3,000 

7,300 

44

15 

DN50 / DN50 

GMSD 2000/20 

8,000 

4,900 

44

37 

DN80 /DN 65 

GMSD 2000/30 

20,000 

2,850 

44

75 

DN150 /DN 125 

GMSD 2000/50 

40,000 

2,000 

44

160 

DN200 /DN 150 

霧化石墨乳研磨分散機,粒度可控石墨乳分散機,溶劑型石墨乳研磨分散機,顯像管用石墨乳研磨分散機 

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